西村 久明

Hisaaki Nishimura

助教

  • 略歴
    • 2005年 東京大学理学部物理学科卒業
    • 2005-2007年 同大学院修士課程修了
    • 2007-2012年 株式会社東芝(メモリ開発に従事)
    • 2012-2018年 信州大学医学部医学科卒業
    • 2018-2020年 東京大学医学部附属病院(初期研修)
    • 2020-2023年 東京医科歯科大学大学院医歯学総合研究科博士課程卒業
    • 2023年-現在 東京医科歯科大学大学院医歯学総合研究科国際健康推進医学分野助教