西村 久明

Hisaaki Nishimura

大学院生

  • 略歴
    • 2005年 東京大学理学部物理学科卒業
    • 2005-2007年 同大学院修士課程修了
    • 2007-2012年 株式会社東芝(メモリ開発に従事)
    • 2012-2018年 信州大学医学部医学科卒業
    • 2018-2020年 東京大学医学部附属病院(初期研修)
    • 2020年 東京医科歯科大学大学院医歯学総合研究科博士課程入学